Добро пожаловать в клуб

Показать / Спрятать  Домой  Новости Статьи Файлы Форум Web ссылки F.A.Q. Логобург    Показать / Спрятать

       
Поиск   
Главное меню
ДомойНовостиСтатьиПостановка звуковФайлыДефектологияКнижный мирФорумСловарьРассылкаКаталог ссылокРейтинг пользователейЧаВо(FAQ)КонкурсWeb магазинШкольникамКарта сайта

Поздравляем!
Поздравляем нового Логобуржца Королёва со вступлением в клуб!

Реклама

КНИЖНЫЙ МИР

Зарождение кристаллов в литиевосиликатных фоточувствительных стеклах   Галина Александровна Сычёва

Зарождение кристаллов в литиевосиликатных фоточувствительных стеклах

156 страниц. 2011 год.
LAP Lambert Academic Publishing
В работе исследована кинетика гомогенного и гетерогенного зарождения кристаллов в литиевосиликатных фоточувствительных стеклах. Гомогенное зарождение реализовывалось в литиевосиликатных стеклах без фоточувствительных примесей, а также в стеклах с фоточувствительными примесями без ионизирующего облучения. Гетерогенное зарождение реализовывалось в стеклах с фоточувствительными примесями и ультрафиолетовым или рентгеновским облучением. Рентгеновское облучение не требует наличия в стекле сенсибилизирующих примесей диоксида церия. В качестве гетегоргенного зарождения рассмотрено автокаталитическое зарождение, реализующееся при смещении состава стекла в сторону увеличения содержания диоксида лития. Полученные характеристики зарождения позволяют выбрать оптимальные составы для производства фотоситаллов.
 
- Генерация страницы: 0.05 секунд -