Добро пожаловать в клуб

Показать / Спрятать  Домой  Новости Статьи Файлы Форум Web ссылки F.A.Q. Логобург    Показать / Спрятать

       
Поиск   
Главное меню
ДомойНовостиСтатьиПостановка звуковФайлыКнижный мирФорумСловарьРассылкаКаталог ссылокРейтинг пользователейЧаВо(FAQ)КонкурсWeb магазинКарта сайта

Поздравляем!
Поздравляем нового Логобуржца Olgsko со вступлением в клуб!

Реклама

КНИЖНЫЙ МИР

Моделирование полупроводниковых приборов и технологических процессов. Последние достижения  

Моделирование полупроводниковых приборов и технологических процессов. Последние достижения

60x90/16 280 страниц. 1989 год.
Радио и связь
В книге представлены доклады известных специалистов из разных стран на IV Международной конференции по моделированию полупроводниковых приборов и интегральных схем, проходившей в июне 1985 г. в г.Дублине. Рассматриваются вопросы моделирования электрофизических характеристик приборов и технологических процессов, применяемых при их изготовлении. Большое внимание уделено используемым численным методам и описанию пакетов прикладных программ. Широко представлены результаты двумерного моделирования различных полупроводниковых приборов, а также процессов диффузии и окисления. Наряду с традиционной диффузионно-дрейфовой моделью в ряде работ для анализа характеристик приборов используются гидродинамическая модель и метод частиц. Кратко затрагиваются вопросы схемотехнического анализа, моделирования литографии, травления, осаждения, ионной имплантации, воздействия светового и ионизирующего излучений. Для научных работников.
 
- Генерация страницы: 0.03 секунд -